성균관대 연구팀, 이온빔 이용 차세대 반도체 소재 고성능화 고안강유전성 활용한 고효율 반도체 소자 실용화김용준 기자2022-05-13 09:42:00댓글 0kyjun7515@hanmail.net content_copy 가− 가+ link # 태그 #과학기술정보통신부 #성균관 #성균관대학교 #강유전성 #하프늄옥사이드 chevron_left 이전 기사LG생활건강, 일본 홋카이도에 마이크로바이옴 센터 설립다음 기사IBM, 양자 컴퓨터 실용화 시대를 위한 새로운 로드맵 공개 chevron_right 관련 기사자체뉴스[인터뷰] (주)대동금속, 자동화 생산체계 기반 케이블트레이 경쟁력 강화2026-10-12 08:32:46보도자료EV Group, 웨이퍼 본딩·NIL로 차세대 CPO 제조 해법 제시2026-09-29 10:08:05보도자료애니모션텍, ‘제23회 국제 반도체 기판 및 첨단 패키징 산업전’ 참가2026-09-04 11:03:15 댓글 0로그인 후 댓글을 작성할 수 있습니다.
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