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반도체 리소그래피 광원 주요 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 우라나카 카츠미)가 현재 개발중인 EUV 스캐너용 레이저 생성 플라즈마(LPP) 광원에 대해 최첨단 반도체 양산 라인에서의 가동을 상정한 파일럿 광원 주）으로 집광 미러 반사율 저하량 －0.4%/Bpls를 달성함으로써 큰 걸림돌을 해소했다고 발표했다.

기가포톤은 올 여름 자체 개발 기술인 자기장을 이용한 Debris Mitigation(잔해물 제거법) 기술에 있어서 수소개스의 흐름을 최적화 시켜 실물 집광 미러를 탑재한 파일럿 광원으로 수명시험을 실시하여 집광 미러의 반사율 저하량을 -0.4%/Bpls라는 결과를 달성했다.

이 수치는 미러의 3개월 수명에 상당하며, 4월에 실시한 동일시험(반사율 저하량-10%/Bpls)에 비교하여 큰 폭으로 진전했다고 할 수 있다.

기가포톤 대표이사 부사장 미조구치 하카루는 “최첨단 반도체 양산 라인에서의 가동을 감안 한 파일럿 광원으로 달성한 이번 결과는 큰 기술적인 걸림돌이 해소됨으로써 EUV광원이 시장 도입에 크게 접근했다는 점을 보여준 것이며 당사는 앞으로도 EUV 광원의 개발을 통해서 반도체 산업의 발전에 기여해 나가고자 한다”고 말했다.